應(yīng)用方向主要用于光電等領(lǐng)域。
六碳科技生產(chǎn)的二硫化錸薄膜采用化學(xué)氣相沉積法(CVD),在多種基底,例如 氧化硅硅片、光學(xué)藍(lán)寶石片等基材上沉積二硫化錸薄膜。